From WikiChip
qualcomm/msm process


  • 10 nm (0.01 μm, 1.0e-5 mm)
  • 14 nm (0.014 μm, 1.4e-5 mm)
  • 20 nm (0.02 μm, 2.0e-5 mm)
  • 32 nm (0.032 μm, 3.2e-5 mm)
  • 45 nm (0.045 μm, 4.5e-5 mm)
  • 65 nm (0.065 μm, 6.5e-5 mm)
  • 90 nm (0.09 μm, 9.0e-5 mm)
  • 130 nm (0.13 μm, 1.3e-4 mm)
  • 180 nm (0.18 μm, 1.8e-4 mm)
  • 250 nm (0.25 μm, 2.5e-4 mm)
  • 350 nm (0.35 μm, 3.5e-4 mm)
  • 500 nm (0.5 μm, 5.0e-4 mm)
  • 800 nm (0.8 μm, 8.0e-4 mm)

 

From page     Property
Retrieved from "https://en.wikichip.org/wiki/Special:PageProperty/qualcomm/msm::process"