From WikiChip
hisilicon/kirin process


  • 5 nm (0.005 μm, 5.0e-6 mm)
  • 7 nm (0.007 μm, 7.0e-6 mm)
  • 10 nm (0.01 μm, 1.0e-5 mm)
  • 12 nm (0.012 μm, 1.2e-5 mm)
  • 14 nm (0.014 μm, 1.4e-5 mm)
  • 16 nm (0.016 μm, 1.6e-5 mm)
  • 28 nm (0.028 μm, 2.8e-5 mm)

 

From page     Property
Retrieved from "https://en.wikichip.org/wiki/Special:PageProperty/hisilicon/kirin::process"